| 发明名称 | 介电质CMP浆液中CsOH的应用 | ||
| 摘要 | 包含磨蚀剂和氢氧化铯的化学机械抛光组合物及利用含有氢氧化铯的抛光组合物抛光与集成电路结合的介电层的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1220742C | 申请公布日期 | 2005.09.28 |
| 申请号 | CN00815146.6 | 申请日期 | 2000.10.31 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 艾丽西亚·F·沃尔特斯;布赖恩·L·米勒;詹姆斯·A·德克森;保罗·M·菲尼 |
| 分类号 | C09G1/02 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光组合物，其包含锻烧磨蚀剂及0.01至5.0重量百分比的至少一种Cs+碱性盐，其中该碱性盐选自甲酸铯，醋酸铯，碳酸铯，碳酸氢铯，氟化铯，氯化铯，碘化铯及其混合物。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||