发明名称 | 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底 | ||
摘要 | 作成一种烧结体,其含有作为成分的氧化铟、氧化锌、氧化锡的1种以上,在该烧结体中含有氧化铪、氧化钽、镧系氧化物、及氧化铋的任1种以上的金属。在该烧结体上安装背板构成溅射靶。利用该溅射靶通过溅射在给定衬底上制造导电膜。该导电膜维持与过去相同程度的透明性,同时实现大的功函数。使用该导电膜,能够实现空穴注入效率提高的EL元件等。 | ||
申请公布号 | CN1675399A | 申请公布日期 | 2005.09.28 |
申请号 | CN03818642.X | 申请日期 | 2003.05.26 |
申请人 | 出光兴产株式会社 | 发明人 | 井上一吉;川村久幸 |
分类号 | C23C14/34;C04B35/01;H05B33/28;H05B33/22;H05B33/14;H01B5/14 | 主分类号 | C23C14/34 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭煜;庞立志 |
主权项 | 1.一种溅射靶,作为成分含有选自铟、锌、锡的1种以上的金属,其中,作为第三成分,含有选自铪、钽、铋或镧系金属的至少1种以上的金属。 | ||
地址 | 日本东京都 |