| 发明名称 | 图形形成方法 | ||
| 摘要 | 一种图形形成方法，包含前处理工序、显影工序、及清洗工序；在该前处理工序中，将具有氧化作用的氧化性液体涂覆到曝光后的感光性抗蚀剂膜(301a、b)的表面，由该氧化性液体氧化该抗蚀剂膜的表面，形成氧化层(310)；在该显影工序中，向氧化了表面的上述感光性抗蚀剂膜供给显影液(302)，进行该抗蚀剂膜的显影；在该清洗工序中，向上述被处理基板的表面供给清洗液，对该基板进行清洗。这样，可抑制形成于抗蚀剂的图形的基板整个区域和微小区域的尺寸差，减少在显影工序中产生的缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN1220245C | 申请公布日期 | 2005.09.21 |
| 申请号 | CN02103561.X | 申请日期 | 2002.02.07 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 高桥理一郎;早崎圭;伊藤信一 |
| 分类号 | H01L21/00;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 何腾云 |
| 主权项 | 1.一种图形形成方法，其特征在于：包含如下工序：在被处理基板上涂覆感光性抗蚀剂膜的工序、对上述感光性抗蚀剂膜进行曝光的工序、前处理工序、显影工序、及清洗工序；在该前处理工序中，将具有氧化作用的氧化性液体涂覆到曝光后的感光性抗蚀剂膜的表面，由该氧化性液体氧化该抗蚀剂膜的表面，形成氧化层；在该显影工序中，向氧化了表面的上述感光性抗蚀剂膜供给显影液，进行该抗蚀剂膜的显影；在该清洗工序中，向上述被处理基板的表面供给清洗液，对该基板进行清洗。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||