光刻设备及器件制作方法

摘要

使用一种系统和方法以在衬底上形成特征。该系统和方法包括使用：包括单个可控制元件的第一阵列，该单个可控制元件选择性地定型辐射束；包括多组透镜和孔径光阑的第二阵列，所述透镜和孔径光阑在第一平面内形成来自各个单个可控制元件的图像；包括多个透镜的第三阵列，所述多个透镜在第二平面内形成来自各个所述第二阵列的图像；以及在所述第二平面内支持衬底的衬底平台，使得该衬底接收来自各个所述第二阵列的图像。第一阵列、第二阵列、及第三阵列内元件之间的间距相等。

主权项

1.一种光刻设备，包括：提供辐射束的照明系统；包括单个可控制元件的构图阵列，这些元件根据构图阵列上的预期图形选择性地把辐射束分成多个受调制的子射束；微透镜组阵列，各个微透镜组具有一个孔径光阑，并在第一平面上形成来自各个所述单个可控制元件的图像；微型物镜阵列，各个微型物镜在第二平面上形成各个所述微透镜组的孔径光阑的图像；以及衬底平台，用于在所述第二平面内支持衬底，以便定位衬底以接收孔径光阑的图像；其中所述构图阵列、所述微透镜组阵列、以及所述微型物镜阵列的元件间距相同。