| 发明名称 | 光学基底及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明披露一种光学表面基底。光学基底的特征在于相关长度为约1厘米或更小的三维表面。光学基底是由第一表面结构函数定义的，第一表面结构函数由第二表面结构函数调制，第一表面结构函数从第一输入光束中产生至少一个镜像分量。光学基底适用于多种应用，包括亮度增强和投影器件在内。 | ||
| 申请公布号 | CN1668942A | 申请公布日期 | 2005.09.14 |
| 申请号 | CN03816663.1 | 申请日期 | 2003.05.13 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | 尤金·G·奥尔克扎克 |
| 分类号 | G02B5/02 | 主分类号 | G02B5/02 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1.一种模拟光学基底(100)的表面的方法，所述方法包括：在坐标系统内定义第一窗口(216)；在第一窗口(216)内定义主函数(210)；在第一窗口(216)内的第一位置处，定义作为第一窗口(216)部分的第二窗口(200)；在第二窗口(200)内选择点集合；定义使所选择的点集合互相连接的调制通道(206)；沿着调制通道(206)定义表面函数；沿着调制通道(206)调制表面函数；结合调制的表面函数和主函数(210)，从而在调制通道(206)的范围内产生三维结构图案。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||