发明名称 | 用于抗反射涂层的组合物及形成图形的方法 | ||
摘要 | 在化学增强光致抗蚀剂膜上施覆抗反射涂层组合物,形成了抗反射涂层膜,该组合物包含碱溶性含氟聚合物、酸、胺和适于溶解这些组分的溶剂,pH为7或更小。所形成的抗反射涂层膜可以用于防止在光致抗蚀剂膜内的多次反射,提高了曝光后显影液显影时的光致抗蚀剂膜的厚度减少量,并形成了具有矩形横截面图形且无T顶或圆顶的图形。 | ||
申请公布号 | CN1666154A | 申请公布日期 | 2005.09.07 |
申请号 | CN03815458.7 | 申请日期 | 2003.06.26 |
申请人 | AZ电子材料(日本)株式会社 | 发明人 | 秋山靖;高野佑辅 |
分类号 | G03F7/38;G03F7/11;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/38 |
代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
主权项 | 1.一种抗反射涂层组合物,pH为7或更小,包含含氟聚合物、酸、胺和适于溶解这些组分的含水溶剂。 | ||
地址 | 日本国东京都 |