发明名称 用于抗反射涂层的组合物及形成图形的方法
摘要 在化学增强光致抗蚀剂膜上施覆抗反射涂层组合物,形成了抗反射涂层膜,该组合物包含碱溶性含氟聚合物、酸、胺和适于溶解这些组分的溶剂,pH为7或更小。所形成的抗反射涂层膜可以用于防止在光致抗蚀剂膜内的多次反射,提高了曝光后显影液显影时的光致抗蚀剂膜的厚度减少量,并形成了具有矩形横截面图形且无T顶或圆顶的图形。
申请公布号 CN1666154A 申请公布日期 2005.09.07
申请号 CN03815458.7 申请日期 2003.06.26
申请人 AZ电子材料(日本)株式会社 发明人 秋山靖;高野佑辅
分类号 G03F7/38;G03F7/11;H01L21/027 主分类号 G03F7/38
代理机构 北京三幸商标专利事务所 代理人 刘激扬
主权项 1.一种抗反射涂层组合物,pH为7或更小,包含含氟聚合物、酸、胺和适于溶解这些组分的含水溶剂。
地址 日本国东京都