发明名称 电镀装置、电镀方法及半导体装置之制造方法
摘要 根据本发明实施例设有电镀装置,其包括:电镀溶液槽,其储存电镀溶液;握持住基板之保持具,在电镀溶液槽中种子层系形成于基板上;设置于此电镀溶液槽中之第一阳极,其构成材料之氧化还原电位较构成种子层之金属之氧化还原电位更具阳极性,且可电性连接至由该保持具所握持基板之种子层;以及设置于此电镀溶液槽中之第二阳极,其可在由该保持具所握持基板之种子层间施加电压。
申请公布号 TW200529286 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW093136334 申请日期 2004.11.25
申请人 东芝股份有限公司 发明人 丰田启;松井嘉孝;八寻和之;山边纯成;三岛志朗;永松贵人
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本