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发明名称
单结晶半导体之制造方法(二)
摘要
〔课题〕自熔液牵引成长单结晶半导体之过程中,藉由杂质更均匀地取入单结晶半导体内,使半导体晶圆表面内之杂质浓度不均变小,使晶圆平坦度更加提高。〔解决手段〕于牵引单结晶半导体(6)过程中,藉由抑制牵引速度之变动,使单结晶半导体(6)内杂质浓度不均变小。特别是使牵引速度10秒间之速度变动幅度ΔV调整到不满0.025mm/min。而且,当实施调整牵引速度之控制,以使单结晶半导体(6)直径变成希望的直径时,施加1500高斯以上强度之磁场到熔液(5)。
申请公布号
TW200528592
申请公布日期
2005.09.01
申请号
TW093138741
申请日期
2004.12.14
申请人
小松电子金属股份有限公司
发明人
稻垣宏;本间雅规;川岛茂树;柴田昌弘
分类号
C30B29/06;C30B15/14;H01L21/208
主分类号
C30B29/06
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本
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