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发明名称 METHOD FOR FORMING CONTACT HOLE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20050084710(A) 申请公布日期 2005.08.29
申请号 KR20040012101 申请日期 2004.02.24
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 LEE, BYUNG HYUN;SHIN, DONG WON;KIM, DAE HWAN
分类号 H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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