| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包括:一用于提供一辐射投影束之辐射系统;一用于支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件根据一所需要图案来使该投影束形成图案;一用于支撑一基片之基片工作台;一用于向该基片之一目标部分上投影该图案化射束之投影系统;及一用于在该投影系统之最后元件与该基片之间填充一液体之液体供应系统;其特征为:于该投影系统与该基片工作台之间提供一透明盘,且该透明盘与该投影系统机械地隔离;用于保持该透明盘相对于该投影系统大体上静止之构件。2.根据申请专利范围第1项之装置,其中该透明盘于该投影射束之波长下之折射率大体上与于该波长下该液体之折射率相同。3.根据申请专利范围第1或2项之装置,其中该透明盘之形状及定位使该液体分割成两部分,一部分位于该投影透镜与该盘之间,另一部分位于该盘与该基片工作台之间,且此两部分之间未有液体流通。4.根据申请专利范围第1或2项之装置,其中该用于保持该透明盘大体上静止之装置包含一致动器系统。5.根据申请专利范围第4项之装置,其中该致动器系统包含一用于测量该透明盘相对于该投影系统位置之位置感测器以及与该位置感测器耦合之致动器构件。6.根据申请专利范围第5项之装置,其中该位置感测器安装于一参考框架上,该参考框架亦支撑该投影系统。7.根据申请专利范围第6项之装置,其中该致动器构件安装于一底座上,该参考框架与该底座机械地隔离。8.根据申请专利范围第4项之装置,其中以一回馈方式控制该致动器系统。9.根据申请专利范围第4项之装置,其中以一前馈方式控制该致动器系统。10.一种器件制造方法,其包括下列步骤:提供一基片,该基片藉由一辐射敏感材料层至少部分覆盖;使用一辐射系统提供一辐射投影束;使用图案化构件以于该投影射束之横截面上赋予该投影射束一图案;向该辐射敏感材料层之一目标部分上投影该图案化之辐射束;且提供一液体以填充该基片与在该投影步骤中使用之一投影系统之一最后元件之间之空间;其特征为于该基片与该投影系统之该最后元件之间提供一与该投影系统机械地隔离之透明盘,且保持该透明盘相对于该投影系统大体上静止。图式简单说明:图1描述一根据本发明之一具体实施例之微影投影装置;图2描述本发明之具体实施例之该基片工作台浸渍与投影透镜隔离布置。 |
