| 主权项 |
1.一种制备式VIIa之芳基醚之方法: 其中 n和n1独立为1,2或3; R和R1基可以相同或相异,各为氢或C1-C6烷氧基;其包 括: a)将取代或未取代之反式桂皮醇氧化,得到式Ia之 中间体环氧化物: b)将该环氧化物与取代或未取代之苯酚反应,得到 式IIa之二醇: c)将该二醇与矽烷化试剂反应,得到式IIIa之醇: 其中P为一种矽烷基键联反应基; d)将式IIIa之醇与磺酸之反应性衍生物反应,得到式 IVa之化合物: 其中Ra为磺酸之残基; e)将P从式IVa之化合物移除,得到式Va之醇: f)将磺醯氧基取代,得到式VIa之环氧化物: 和 g)将该环氧化物与氨反应,得到式VIIa之化合物。 2.根据申请专利范围第1项之方法,其更包括: h)将式VIIa之化合物 其中 n和n1独立为1,2或3; R和R1基可以相同或相异,各为氢或C1-C6烷氧基;与式 HOOCCH2L之羧酸或其反应性衍生物反应,其中L为离去 基,得到制备VIIIa之醯胺: i)将式VIIIa之化合物反应,得到式IXa之化合物反应: 且 j)将式IXa之化合物还原,得到以下式之对应化合物: 3.根据申请专利范围第2项之方法,其更包括形成一 种吗化合物之医药可接受的盐类。 4.根据申请专利范围第1项之方法,其系制备式VII之 化合物: 其包括: a)将取代或未取代之反式桂皮醇氧化,得到式I之中 间体环氧化物: b)将该环氧化物与取代或未取代之苯酚反应,得到 式II之二醇: c)将该二醇与矽烷化试剂反应,得到式III之醇: d)将式III之醇与磺酸之反应性衍生物反应,得到式 IV之化合物: e)将三甲矽烷基从式IV之化合物移除,得到式V之醇: f)将磺氧基取代,得到式VI之环氧化物: 且 g)将该环氧化物与氨反应,得到式VII之化合物。 5.根据申请专利范围第4项之方法,其更包括制备式 VII之化合物的甲烷磺酸盐。 6.根据申请专利范围第4项之方法,其更包括: h)将式VII之化合物与氯乙醯氯反应,得到式VIII之醯 胺: i)将式VIII之化合物反应,得到式IX之化合物: 且 j)将式IX之化合物还原,得到下式之对应吗化合 物: 7.根据申请专利范围第5项之方法,其更包括: h)将式VII之化合物与氯乙醯氯反应,得到式VIII之醯 胺: i)将式VIII之化合物反应,得到式IX之化合物: 且 j)将制备IX之化合物还原,得到下式之对应吗化 合物: 8.根据申请专利范围第6或7项之方法,其包括形成 吗化合物之医药可接受的盐类。 9.根据申请专利范围第8项之方法,其中该盐类为甲 烷磺酸盐。 10.一种制备式Ia环氧化物之方法: 其中R1及n1如申请专利范围第1项所定义, 其包括以过氧乙酸将对应之烯氧化 其中R1及n1如申请专利范围第1项所定义。 11.一种制备式IIIa化合物之方法: 其中 n和n1独立为1,2或3; R和R1基可以相同或相异,各为氢或C1-C6烷氧基;且 P为矽烷基键联之反应基; 其包括将式IIa之二醇: 与一种适当矽烷化试剂反应。 12.一种制备式VIa化合物之方法: 其中 n和n1独立为1,2或3; R和R1基可以相同或相异,各为氢或C1-C6烷氧基;其包 括在相转移环境下以适当硷在处理式Va之对应化 合物: 其中Ra为磺酸之残基。 13.一种制备下式化合物之方法: 其中 n和n1独立为1,2或3; R和R1基可以相同或相异,各为氢或C1-C6烷氧基;其包 括将式IXa之对应化合物: 添加于包括至少4当量适当还原剂之溶液。 14.根据申请专利范围第13项之方法,其中该还原剂 为甲硼酸,二异丁基氢化铵,二异丙基氢化铵,或双( 2-甲氧乙氧基)氢化铵钠。 15.一种式IIIa之化合物: 其中 n和n1独立为1,2或3; R和R1基可以相同或相异,各为氢或C1-C6烷氧基;且 P为适当矽烷保护基。 16.根据申请专利范围第15项之化合物,其为式III之 化合物: 17.一种式IVa之化合物: 其中 n和n1独立为1,2或3; R和R1基可以相同或相异,各为氢或C1-C6烷氧基; P为适当矽烷保护基;且 Ra为磺酸之残基。 18.根据申请专利范围第17项之化合物,其为制备IV 之化合物: 19.一种式Va之化合物: 其中 n和n1独立为1,2或3; R和R1基可以相同或相异,各为氢或C1-C6烷氧基;且 Ra为磺酸之残基。 20.根据申请专利范围第19项之化合物,其为制备V之 化合物: |
