| 发明名称 | 制造光学存储介质的方法和光学存储介质 | ||
| 摘要 | 提供了一种制造光学存储介质的方法，该介质至少包括透明间隔层(22)或者透明覆盖层。该层是通过以下过程形成的：旋涂内径r<SUB>i</SUB>和外径r<SUB>0</SUB>之间的液体层(22)，并利用辐射曝光(例如UV辐射)使该液体层基本上凝固。在r<SUB>i</SUB>处的液体层(22)的凝固开始在限定为t＝t<SUB>i</SUB>的时刻，在r<SUB>0</SUB>处的液体层(22)的凝固发生在限定为t＝t<SUB>0</SUB>和t<SUB>0</SUB>＝t<SUB>i</SUB>+d并且d＞1的时刻，在r<SUB>i</SUB>和r<SUB>0</SUB>之间的液体层的凝固发生在t<SUB>i</SUB>和t<SUB>0</SUB>之间的时刻。优点在于基本上提高了凝固液体(22)的径向厚度均匀度并且好于+/－1μm。还提供了一种光学存储介质，其是利用其中添加了压模的方法制造的，该压模优选对于辐射透明，将其压入液体层(22)的未凝固顶部并利用特殊设备使其凝固。这样就将信息提供到了间隔层(22)中，同时没有扰乱间隔层(22)厚度的均匀度。 | ||
| 申请公布号 | CN1656548A | 申请公布日期 | 2005.08.17 |
| 申请号 | CN03811456.9 | 申请日期 | 2003.05.13 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | P·H·G·M·维罗曼斯 |
| 分类号 | G11B7/26;G11B7/24 | 主分类号 | G11B7/26 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹光新;梁永 |
| 主权项 | 1.一种制造光学存储介质的方法，该介质包括基板和沉积在基板上的多个层，这些层包括透明间隔层与透明覆盖层中的至少一种，该层是通过以下过程形成的：将液体施加到旋转基板上，进一步使该基板旋转以便将液体基本上均匀地散布成内径ri和外径r0之间的层，并利用辐射曝光使该液体层基本上凝固，其特征在于：-在ri处的液体层的凝固发生在限定为t＝ti的时刻，-在r0处的液体层的凝固发生在限定为t＝t0和t0＝ti+δ并且δ＞1s的时刻，-在ri和r0之间的液体层的凝固发生在ti和t0之间的时刻。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||