发明名称 | 同时厌氧好氧一体化氧化沟 | ||
摘要 | 本发明公开了一种同时好氧厌氧一体化氧化沟。本发明在原一体化氧化沟工艺前增加单独的厌氧区和缺氧区,以期促进稳定和提高原一体化氧化沟工艺的脱氮除磷效果。本发明在原一体化氧化沟前设置厌氧区和缺氧区,在厌氧区实现磷的释放,在氧化沟中实现磷的过量吸收;在缺氧区实现硝基氮的反硝化作用,从而达到稳定的去除有机污染物COD与脱氮除磷目的,提高COD去除效果的同时,提高硝化反硝化脱氮及除磷效率。 | ||
申请公布号 | CN1654367A | 申请公布日期 | 2005.08.17 |
申请号 | CN200510032647.3 | 申请日期 | 2005.01.04 |
申请人 | 华南理工大学 | 发明人 | 周少奇;王平 |
分类号 | C02F3/30 | 主分类号 | C02F3/30 |
代理机构 | 广州粤高专利代理有限公司 | 代理人 | 何淑珍 |
主权项 | 1、同时好氧厌氧一体化氧化沟,包括一体化氧化沟,其特征在于在一体化氧化沟前设置有单独的厌氧区与缺氧区。 | ||
地址 | 510640广东省广州市天河区五山路381号 |