发明名称 同时厌氧好氧一体化氧化沟
摘要 本发明公开了一种同时好氧厌氧一体化氧化沟。本发明在原一体化氧化沟工艺前增加单独的厌氧区和缺氧区,以期促进稳定和提高原一体化氧化沟工艺的脱氮除磷效果。本发明在原一体化氧化沟前设置厌氧区和缺氧区,在厌氧区实现磷的释放,在氧化沟中实现磷的过量吸收;在缺氧区实现硝基氮的反硝化作用,从而达到稳定的去除有机污染物COD与脱氮除磷目的,提高COD去除效果的同时,提高硝化反硝化脱氮及除磷效率。
申请公布号 CN1654367A 申请公布日期 2005.08.17
申请号 CN200510032647.3 申请日期 2005.01.04
申请人 华南理工大学 发明人 周少奇;王平
分类号 C02F3/30 主分类号 C02F3/30
代理机构 广州粤高专利代理有限公司 代理人 何淑珍
主权项 1、同时好氧厌氧一体化氧化沟,包括一体化氧化沟,其特征在于在一体化氧化沟前设置有单独的厌氧区与缺氧区。
地址 510640广东省广州市天河区五山路381号