发明名称 低反射处理物品之制造方法、形成低反射层用溶液及低反射处理物品
摘要 本发明系揭示低反射处理物品之制造方法,其为混合(1)平均粒径40至1000nm之非凝聚二氧化矽微粒子、平均粒径10至100nm之中空状非凝聚二氧化矽微粒子及平均一次粒径10至100nm之链状凝聚二氧化矽中至少一种所形成的二氧化矽微粒子,及(2)含有可水解之矽化合物、水、该矽化合物之水解触媒及溶剂的胶黏液,而反应使该矽化合物水解后,加入(3)能促进矽烷醇基缩合用硬化触媒,再将所得低反射层形成用溶液被覆于树脂基材上,室温或室温至「不损害基材之温度」(热可塑性树脂之变形温度、硬化性树脂之分解温度以下)下反应硬化,而形成含有固体成分重量比为30:70至95:5之二氧化矽微粒子及胶黏液的低反射层。
申请公布号 TW200526978 申请公布日期 2005.08.16
申请号 TW093123520 申请日期 2004.08.05
申请人 ARC股份有限公司 发明人 高桥康史
分类号 G02B1/11 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本