半导体反应室用的排气调节系统

摘要

本发明系关于一种排气系统，更定言之关于一种排气调节系统，包括用于半导体蚀刻及沈积制程之回流保护及收集器／消音器组合。本发明之优点包括自动连续操作，因不预期真空泵当机所致之晶圆损失几乎为零，颗粒缺陷减少，且产率提高。