| 主权项 |
1.一种保全方法,其包含使用一种墨水组合物,该墨水组合物包含一电荷产生材料及一介质,其中该电荷产生材料于电磁光谱中系分别于近红外光区域之自700至1500奈米之间及于可见光区域之自400至700奈米之间具有吸收最大値,且系选自无金属青之多晶形物类型X形式,氧化钛青之多晶形物类型Y形式及I及II相形式,氧化钒青之多晶形物II相形式,及氢氧化镓青及甲氧化镓青之多晶形物V相形式之化合物。2.根据申请专利范围第1项之保全方法,其中该电荷产生材料系X-型式无金属青。3.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该电荷产生材料于自500至700奈米之区域中具有吸收最大値。4.根据申请专利范围第3项之保全方法,其中该电荷产生材料于自600至700奈米之区域中具有吸收最大値。5.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该两个吸收最大値系分开至少50奈米。6.根据申请专利范围第5项之保全方法,其中该两个吸收最大値系分开至少80奈米。7.根据申请专利范围第6项之保全方法,其中该两个吸收最大値系分开至少100奈米。8.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该于可见光区域内的吸收强度为于近红外光区域内的吸收强度之自20及500%之间。9.根据申请专利范围第8项之保全方法,其中该于可见光区域内的吸收弦度为于近红外光区域内的吸收强度之自30及200%之间。10.根据申请专利范围第9项之保全方法,其中该于可见光区域内的吸收强度为于近红外光区域内的吸收强度之自50及100%之间。11.根据申请专利范围第10项之保全方法,其中该于可见光区域内的吸收强度为于近红外光区域内的吸收强度之自80及90%之间。12.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该于近红外光区域内的波峰为其自基线判定的高度之80%处之带宽至多150奈米。13.根据申请专利范围第12项之保全方法,其中该于近红外光区域内的波峰为其自基线判定的高度之80%处之带宽至多100奈米。14.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该电荷产生材料为该墨水之唯一着色剂。15.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该电荷产生材料与一或多种相同、类似或不同颜色之额外着色剂一起使用。16.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其包含有两或多种不同电荷产生材料之混合物。17.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该电荷产生材料不溶于介质中。18.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该组合物藉由印刷方法涂布至物件或基材上。19.根据申请专利范围第18项之保全方法,其中该印刷方法系由下列选出:平版印刷、凹版印刷、喷墨、凹刻印刷、电子影像。20.根据申请专利范围第1或2项之保全方法,其中该保全应用系一种建立物件或基材防伪性之方法,该物件或基材系以该墨水组合物作记号,该方法包含侦测该记号之近红外光辐射之特性吸收。21.根据申请专利范围第20项之保全方法,该方法进一步包含比对该近红外线光辐射之特性吸收与于可见光范围内的辐射吸收。22.根据申请专利范围第21项之保全方法,其中该近红外光范围内吸收波峰的高度系与可见光范围内吸收波峰的高度比较。23.一种保全方法,其包含使用一墨水组合物,该墨水组合物系包含一电荷产生材料及一介质,其中该电荷产生材料于电磁光谱中系分别于近红外光区域之自700至1500奈米之间及于可见光区域之自400至700奈米之间具有吸收最大値,且其中该电荷产生材料系该墨水之唯一着色剂。24.一种建立物件或基材防伪性的方法,该物件或基材系以一墨水组合物作记号,该墨水组合物包含一电荷产生材料及一介质,其中该电荷产生材料于电磁光谱中系分别于近红外光区域之自700至1500奈米之间及于可见光区域之自400至700奈米之间具有吸收最大値,且系选自无金属青之多晶形物类型X形式,氧化钛青之多晶形物类型Y形式及I及II相形式,氧化钒青之多晶形物II相形式,及氢氧化镓青及甲氧化镓青之多晶形物V相形式之化合物。该方法包含侦测该记号之近红外光辐射之特性吸收,及进一步包含比对该近红外光辐射之特性吸收与于可见光范围内的辐射吸收。25.根据申请专利范围第24项之方法,其中该近红外光范围内吸收波峰的高度系与可见光范围内吸收波峰的高度比较。 |
