METHOD AND DEVICE FOR DEPOSITING LAYERS USING NON-CONTINUOUS INJECTION

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden mindestens einer Schicht auf mindestens einem Substrat in einer Prozesskammer (2), wobei die Schicht aus mehreren Komponenten besteht und isolierend, passivieren oder elektrisch leitend ist, wobei die Komponenten mittels nicht kontinuierlicher Injektion eines flüssigen oder in einer Flüssigkeit gelösten Ausgangstoffes (3) mittels je einer Injektoreinheit (5) in eine temperierte Verdampfungskammer (4) verdampft wird und dieser Dampf mittels eines Trägergases (7) der Prozesskammer zugeführt wird. Wesentlich ist, dass die den zeitlichen Verlauf des Massenflusses durch jede Injektoreinheit (5) bestimmenden Massenfluss-Parameter, wie der Injektionsvordruck, die Injektionsfrequenz und das Puls/Pausenverhältnis sowie die Phasenbeziehung der Puls/Pausen zu den Puls/Pausen der anderen Injektoreinheit(en) individuell eingestellt oder variiert werden. Vorgesehen ist ferner, dass der Druck in der Prozesskammer (2) weniger als 100mbar beträgt, dass die Prozesskammer (2) temperiert wird und dass während eine Prozessschrittes mehrere Schichtenfolgen auf dem Substrat (1) abgeschieden werden.