发明名称 |
显像管低熔点玻璃涂敷装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种显像管低熔点玻璃涂敷装置。包括主体、安装于主体上的轨迹涂敷机构、固定于主体下部的底板、在底板上连接有导轨、在导轨上滑动连接有锥夹持机构,其轨迹涂敷机构的进出锥为双头进出锥,位于主体的两侧,在导轨上滑动连接有可交替使用的锥夹持机构。针对彩管生产线中锥封接面低熔点玻璃涂敷作业流程的特点,对低玻机的锥轨迹涂敷装置锥的进出机构由单头变进出锥变为双头进出锥,使轨迹涂敷机构涂敷同其他的工作过程相互叠加。双头轨迹式低熔点玻璃涂敷方式,可以有效的利用轨迹涂敷机构涂敷的时间,提高了低玻机的工作效率。 |
申请公布号 |
CN2717005Y |
申请公布日期 |
2005.08.10 |
申请号 |
CN200420042096.X |
申请日期 |
2004.06.25 |
申请人 |
彩虹集团电子股份有限公司;彩虹显示器件股份有限公司 |
发明人 |
韦明;康选林 |
分类号 |
H01J9/20 |
主分类号 |
H01J9/20 |
代理机构 |
西安通大专利代理有限责任公司 |
代理人 |
陈翠兰 |
主权项 |
1、显像管低熔点玻璃涂敷装置,包括主体(6)、安装于主体(6)上的轨迹涂敷机构(5)、固定于主体(6)下部的底板(1)、在底板(1)上连接有导轨(2)、在导轨(2)上滑动连接有锥夹持机构,其特征在于,轨迹涂敷机构(5)的进出锥为双头进出锥,在导轨(2)上滑动连接有可交替使用的锥夹持机构(3)和(7)。 |
地址 |
712021陕西省咸阳市彩虹路1号 |