有机抗反射涂覆组合物及用其形成光阻图案的方法

摘要

本发明揭示一种有机抗反射涂覆组合物及一种用其形成光阻图案以改良该图案在光阻材料超细图案形成过程中均匀性的方法。该有机抗反射涂覆组合物可避免光阻图案形成过程期间，在待曝光部分中，因光阻膜所含光酸产生剂的曝光而产生的过量酸，从而抑制该酸扩散至其它未曝光部分，以避免引起光阻图案破坏或绉缩。

主权项

1.一种有机抗反射涂覆组合物，其中包含光吸收剂、交联剂、热酸产生剂及有机溶剂，其改良在于包含光碱产生剂。