| 发明名称 | 等离子体辅助涂覆 | ||
| 摘要 | 本发明提供了用于激发、调节和维持等离子体(615)以实现各种涂覆处理的方法和装置。在一个实施例中，在等离子体催化剂(240)存在于底座(245)中的情况下，通过使气体受到由电极(270)和电源(275)提供的大量电磁辐射，在具有壁(232)的腔(230)内形成等离子体，并向该等离子体加入至少一种涂层材料，来涂覆(247)物体表面。该材料沉积在底座(260)上的物体(250)的表面以形成涂层(247)。本发明还提供了多种等离子体催化剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1653867A | 申请公布日期 | 2005.08.10 |
| 申请号 | CN03810269.2 | 申请日期 | 2003.05.07 |
| 申请人 | 达纳公司 | 发明人 | D·库马尔;S·库马尔 |
| 分类号 | H05H1/46;H05H1/00;C23C16/517;C23C16/455;C23C16/452;C23C14/02;C23C16/48 | 主分类号 | H05H1/46 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
| 主权项 | 1.一种涂覆物体第一表面区域的方法，该方法包括以下步骤：在等离子体催化剂存在的情况下，通过使气体受到大量电磁辐射，在第一腔内形成等离子体；将至少一种涂层材料加入所述等离子体；以及允许所述至少一种材料沉积在所述物体的所述表面区域，以形成涂层。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄州 | ||