光栅偏振掩模板及其在投影光刻系统中的应用

摘要

光栅偏振掩模板，属于对投影光学光刻系统中掩模板结构的进一步优化设计，其特征是根据掩模板上特征图形的特征线宽，在掩模特征图形上刻蚀一定宽度和深度的光栅偏振结构，将产生偏振光的光栅结构和传统掩模板结合为一体，使掩模板本身具有输出偏振光的功能，光栅偏振掩模通过控制电场矢量的矢量方向来控制电场的空间相干，达到提高分辨力的目的，而且光栅偏振掩模板上的光栅偏振结构将使不透光区域相邻的透光区域上透过偏振方向相互垂直的线偏振成像光束，则相邻图形的像在硅片上不会产生干涉效应，故邻近效应小，可进一步提高投影光学光刻成像光刻分辨力，进一步挖掘短波长高数值孔径投影光学光刻成像系统的光刻分辨能力，而投影光刻设备不需作任何改动，用于超深亚微米和百纳米级的投影光学光刻。

主权项

1、光栅偏振掩模板，其特征在于：在石英基底上覆盖一层不透光的金属膜，在该金属膜上刻蚀有需要光刻的特征图形，根据掩模上的特征图形，在掩模特征图形上刻蚀相应宽度和深度的光栅偏振结构，光栅偏振结构的光栅周期P为(0.25～0.5)λ，其中λ为投影光学光刻系统的曝光波长，光栅偏振结构的刻蚀深度相同，其值h为(0.25～0.85)P，其中P为光栅偏振结构的光栅周期。