发明名称 ETCHING METHOD, CLEANING METHOD, AND PLASMA PROCESSING UNIT
摘要
申请公布号 KR100506665(B1) 申请公布日期 2005.08.10
申请号 KR19990024136 申请日期 1999.06.25
申请人 发明人
分类号 H01L21/302;H05H1/46;C23C16/44;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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