发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1542076(A3) 申请公布日期 2005.08.03
申请号 EP20040078218 申请日期 2004.11.26
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 LUTTIKHUIS, BERNARDUS ANTONIUS JOHANNES;BARTRAY, PETRUS RUTGERUS;BOX, WILHELMUS JOSEPHUS;LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS;VAN DER WIJST, MARC WILHELMUS MARIA
分类号 G21K5/02;F16F15/04;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G21K5/02
代理机构 代理人
主权项
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