| 发明名称 | 化学增幅型抗蚀剂及图案形成方法 | ||
| 摘要 | 在基板上形成含有水溶性聚合物的化学增幅型抗蚀剂组成的抗蚀剂膜。其中使用水溶性聚合物根据气体透过性比化学增幅型抗蚀剂小的材料。进而通过掩模对抗蚀剂膜选择性照射曝光光线进行图案曝光，然后通过对进行了图案曝光的抗蚀剂膜进行显影，得到由抗蚀剂膜以良好形状被微细化的抗蚀剂图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1648771A | 申请公布日期 | 2005.08.03 |
| 申请号 | CN200510004698.5 | 申请日期 | 2005.01.21 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 远藤政孝;笹子胜 |
| 分类号 | G03F7/004;G03F7/20;H01L21/00;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/004 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种化学增幅型抗蚀剂，含有水溶性聚合物，其特征在于，其中所述水溶性聚合物的气体透过性，比不含所述水溶性聚合物状态下的所述化学增幅型抗蚀剂小。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||