发明名称 | 光记录媒体 | ||
摘要 | 本发明提供不仅维持高耐光性或良好的反射率且可用10m/s以上的高速线速度进行记录的光记录媒体。光记录媒体(10)的基材(21)上设含有薄膜状态下的极大吸收波长450nm以上、620nm以下的第1染料为主成分的记录层(22),记录层(22)含记录波长下的消光系数0.5以上的第2染料。此时,第2染料的薄膜状态下的极大吸收波长优选是620nm以上、750nm以下。 | ||
申请公布号 | CN1213420C | 申请公布日期 | 2005.08.03 |
申请号 | CN03107692.0 | 申请日期 | 2003.03.26 |
申请人 | TDK股份有限公司 | 发明人 | 洞井高志;有冈博之;福泽成敏;塚本修司 |
分类号 | G11B7/24;C09B62/515 | 主分类号 | G11B7/24 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王健 |
主权项 | 1.光记录媒体,其是在基材上设置记录层而构成,所述记录层含有由从下述通式(I)表示的染料和金属的螯合化合物中选出的1种或2种以上构成的第1染料和由从五甲炔花青染料、三甲炔花青染料和七甲炔花青染料中选出的1种构成的第2染料,其中所述第1染料作为主成分的在重量比为99.5∶0.5~9 5∶5的范围内,<img file="C031076920002C1.GIF" wi="1089" he="353" />式中,A表示与其结合的碳原子和氮原子一起形成杂环的残基,B表示与其结合的两个碳原子一起形成芳香环或杂环的残基,X表示羟基、羧基、磺酸衍生物基团、或(NSO<sub>2</sub>Q)<sup>-</sup>,该Q表示也可用卤原子取代的C<sub>1</sub>~C<sub>6</sub>的烷基。 | ||
地址 | 日本东京都 |