| 摘要 |
本发明提供一种多重偏极装置以增加半导体微影技术的解析度。多重偏极装置系包含具有复数个绕射光学元件，及具有不同相位延迟之复数个波片之一转盘，其中具有不同相位延迟之复数个波片位于具有各种绕射光学元件的前方，可以随着复数个绕射光学元件转动，以产生适合的偏极态与适合的照明形状之雷射光。当曝光光源发射一线偏极雷射光透过转盘上某一相位延迟之波片，使得线偏极雷射光转成某一特定的偏极型态之雷射光，且同时会根据所选择的转盘上的绕射光学元件，以绕射产生不同形状的雷射光源，而适用于光罩上特殊积体电路图案，以增加微影曝光解析度。 |
