| 主权项 |
1.一种曝光装置,包含:投影机构,用于投射画在一原片表面上之图案;一台装置,其移动该原片的至少一基板及相关该投影机构的基板;曝光机构,用来使该基板重复曝光至该原片的图案,其中数个连接至该台装置的可移动单元之管系相互接合在该管的部份外表面,且构成一集成管列。2.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中连接至该可移动单元的电缆或信号线缆,通过作为该集成管列的管的其中几管的中空部。3.如申请专利范围第1或2项之曝光装置,其中以一液体或阻尼构件充填之振动阻尼管系配置在该管列的外表面上。4.如申请专利范围第1或2项之曝光装置,其中围住该集成管列之振动阻尼管被设置,且,该集成管列与该振动阻尼管间的中空部系以一液体或阻尼构件予以充填。5.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中热塑性萤光树脂、或以聚氨酯树脂及热塑性萤光树脂制成之多层构件系使用作为该集成管列之管路材料。6.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中被添加一导电材料之以一聚合材料制成之树脂系使用作为该集成管列之管路材料。7.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中被添加一导电材料之热塑性萤光树脂、聚氨酯树脂及尼龙树脂的一者系使用作为该集成管列的管路材料。8.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中一导电材料系沉积在该集成管列的外表面上。9.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中以一导电材料制成之片状膜系配置邻接至该集成管列的外表面。10.如申请专利范围第8或9项之曝光装置,其中该集成管列的外表面系接地至该台装置的底盘接地。11.如申请专利范围第10项之曝光装置,其中一导电构件系使用作为用于支撑如一挠性单元或导引该集成管列的构件之材料。12.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中该集成管列系对称配置于相对于该台装置中的该可移动单元的移动方向之水平或垂直方向。图式简单说明:图1A及1B系分别地显示一习用台及一管路总成的横截面之示意图;图2系显示依据本发明的整体曝光装置之示意图;图3系依据本发明之台装置的立体图;图4A及4B系依据第一实施例分别地显示一晶圆台4及一台管路总成的横截面之示意图;图5系显示依据第二实施例之台管路总成的横截面之示意图;图6系显示依据第三实施例之台管路总成的横截面之示意图;图7系显示依据第四实施例之台管路总成的横截面之示意图;图8系显示依据第五实施例之台管路总成的横截面之示意图;图9A至9D系显示依据第六实施例之台管路总成的横截面之示意图;图10系显示依据第七实施例的管路轨道30(导电材料)之示意图,其中底盘接地31系配置在抗静电管路管子26至29可挠性地移动之范围内;图11系显示依据第八实施例之光罩台2中的Y管路总成32之示意图;及图12A至12C系分别地显示依据第八实施例相对于光罩台2几乎对称配置的Y管路总成的状态及横截面之示意图。 |
