| 主权项 |
1.一种基板收容匣的定位装置,乃是将基板收容匣 定位在设置台上所定位置的基板收容匣之定位装 置,其特征为具备有: 配设在前述设置台与前述基板收容匣抵接而将前 述基板收容匣引导至前述所定位置的安装构件; 设置在前述基板收容匣的底面之凹部;以及 在前述设置台上,配置在不同于前述安装构件的位 置,与前述凹部系合自如地将该基板收容匣定位于 所定的位置之凸部。 2.如申请专利范围第1项的基板收容匣的定位装置, 其中前述凹部系不位在同一直线上之至少配置在3 处之断面呈V字状的沟部,而前述凸部系对应前述 凹部而配置的球面部。 3.如申请专利范围第1项或第2项的基板收容匣的定 位装置, 其中前述基板收容匣被构成为,从前述设置台的上 方定位于前述所定位置, 该安装构件具有与前述基板收容匣抵接的部分为 形成于倾斜面之引导部, 前述基板收容匣系该基板收容匣的底面周缘部抵 接前述倾斜面,而被引导至前述所定位置者。 4.如申请专利范围第1项或第2项的基板收容匣的定 位装置, 其中前述基板收容匣被构成为,从前述设置台的上 方定位于前述所定位置, 前述基板收容匣系具有由形成于与前述安装构件 相抵接之底面周缘部的倾斜面所构成之引导部, 前述基板收容匣系形成于前述基板收容匣的引导 部抵接前述安装构件,而被引导至前述所定位置者 。 5.如申请专利范围第1项的基板收容匣的定位装置, 其中在前述安装构件附近,具有用于吸引前述设置 台上灰尘的吸引机构者。 6.如申请专利范围第1项的基板收容匣之定位装置, 其中在前述基板收容匣和前述安装构件中至少一 方,设有用于缓和该基板收容匣抵接前述引导部时 所产生的冲击之冲击吸收材者。 7.一种曝光装置,藉来自照明系统的光线介由投影 光学系统而将屏蔽的图像转录在基板,其特征为: 具有如申请专利范围第1项至第6项中任何一项的 基板收容匣之定位装置,可将收容该基板的基板收 容匣定位于设置台上的所定位置者。 8.一种基板收容匣之搬运方法,乃是将基板收容匣 搬运至设置台上所定位置,其特征为: 使前述基板收容匣的外周面,和设于前述设置台上 的安装构件接触,而使前述基板收容匣移动至所定 位置者, 而在移动到前述所定位置后,使设于前述基板收容 匣的第1系合构件,和被设于与前述设置台上之前 述安装构件不同位置之用以与前述第1系合构件系 合的第2系合构件相系合者。 9.如申请专利范围第8项的基板收容匣之搬运方法, 其中前述基板收容匣的外周面,和装设于前述设置 台上的安装构件的接触,系由设于前述外周面和前 述安装构件中至少一方的引导部实施, 而介由前述引导部,使前述基板收容匣移动至前述 所定位置者。 10.如申请专利范围第9项的基板收容匣之搬运方法 , 其中前述引导部为,形成于前述外周面和前述安装 构件中至少一方的引导面者。 11.如申请专利范围第9项的基板收容匣之搬运方法 , 其中使前述基板收容匣移动至前述设置台的上方, 从前述上方使前述基板收容匣朝向前速设置台下 降, 在前述下降途中,使前述基板匣的外周面,和前述 安装构件接触者。 12.如申请专利范围第11项的基板收容匣之搬运方 法,其中设于前述安装构件的前述引导部为,如同 朝向前述上方扩大般倾斜的倾斜面。 13.如申请专利范围第11项的基板收容匣之搬运方 法, 其中设于前述基板收容匣外周面的前述引导部为, 如同朝向前述下降方向收敛般倾斜的倾斜面。 图式简单说明: 第1图系表示本发明实旅形态图,为藉由定位装置 定位的晶片匣和设置台的外观斜视图。 第2图系表示本发明实施形态图,具有晶片匣定位 装置的曝光装置平面剖面图。 第3图系第2图A-A线之剖面图。 第4图系表示本发明实施形态中,系合了沟构件的V 沟和摄影耦合销球面部的正面图。 第5图系表示本发明实施形态图,在设置台装设引 导构件及灰尘消除装置的剖面图。 第6图系表示本发明实施形态图,(a)系在设置台上 使摄影耦合销得以120间隔的放射线状延伸般装设 的平面图,(b)系表示在设置台设置晶片匣模样的正 面图。 第7图系表示本发明实施形态图,在设置台上欲将 晶片匣定位时的动作图。 第8图系表示本发明实施形态图,在设置台上欲将 晶片匣定位时的动作图。 第9图系表示本发明实施形态的图,在设置台上装 设引导构件三处的外观斜视图。 第10图系藉以习用技术,定位在设置台上所定位置 的晶片匣外观斜视图。 |
