发明名称 具有紫外线遮蔽性之贴敷剂
摘要 本发明为一种其载体经紫外线遮蔽加工之贴敷剂,该载体通常为一层。紫外线遮蔽加工通常使用有机类紫外线吸收剂及/或无机类紫外线遮蔽剂。贴敷剂之主剂中因而可含有光安定性差之药物或非类固醇类消炎镇痛剂。
申请公布号 TWI236916 申请公布日期 2005.08.01
申请号 TW090105917 申请日期 2001.03.14
申请人 久光制药股份有限公司 发明人 鹤田清美;池浦康弘
分类号 A61K9/70;A61K47/22;A61K47/12;A61K47/14;A61K47/18;A61K47/02;A61K47/32;A61K31/196;A61K31/54;A61K31/404;A61P29/00 主分类号 A61K9/70
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路80号6楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路80号6楼
主权项 1.一种贴敷剂,其特征为含有使用有机类紫外线吸 收剂及/或无机类紫外线遮蔽剂施加紫外线遮蔽加 工之载体,其中上述载体为上述贴敷剂上唯一含有 之载体者,而该有机类紫外线吸收剂为选自苯并三 唑衍生物、邻胺基苯甲酸、香豆酸衍生物、氰基 丙烯酸酯衍生物、以及胺基酸类化合物中之一种 或二种以上者。 2.如申请专利范围第1项之贴敷剂,其特征为无机类 紫外线遮蔽剂为选自氧化钛、氧化锌、氧化铁、 滑石、高岭土、氧化铝、以及碳酸钙之一种或二 种以上者。 3.如申请专利范围第2项之贴敷剂,其中上述载体在 温度25℃、紫外线强度约0.14mW/hr/cm2条件下之光透 过率为26%以下者。 4.如申请专利范围第3项之贴敷剂,其特征为主剂中 含有光安定性差之药物者。 5.如申请专利范围第1至4项中任一项之贴敷剂,其 特征为其主剂中含有非类固醇类消炎镇痛剂者。 6.如申请专利范围第5项之贴敷剂,其中非类固醇类 消炎镇痛剂之配合量为主剂总量基准之0.1至7.0重 量%者。 7.如申请专利范围第6项之贴敷剂,其中上述主剂为 更含有该主剂总量基准之10至50重量%苯乙烯-异戊 二烯-苯乙烯絮凝体共聚物、1至20重量%聚异丁烯 、5至50重量%赋黏剂、以及10至70重量%可塑剂之黏 附性主剂,再将之展开在上述载体上而成者。 8.如申请专利范围第5项之贴敷剂,其中非类固醇类 消炎镇痛剂系选自凯妥普洛芬(Ketoprofen)、二克氯 吩(diclofenac),苏普罗吩(Suprofen)、匹洛西卡(Piroxicam) 、美洒辛(Indometacin)、弗鲁必普罗吩( Flurbiprofen)、菲必那克(Felbinac)、洛克索普罗吩( hoxoprofen)及其盐者。 图式简单说明: 第1图为在光透过试验中使用之人工气象装置的斜 视图。
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