| 发明名称 |
LITHOGRAPHIC APPARATUS, ILLUMINATION SYSTEM AND METHOD FOR PROVIDING A PROJECTION BEAM OF EUV RADIATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG112940(A1) |
申请公布日期 |
2005.07.28 |
| 申请号 |
SG20040007050 |
申请日期 |
2004.12.01 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
IVANOV, VLADIMIR VITALEVITCH;BANINE, VADIM YEVGENYEVICH;KOSHELEV, KONSTANTIN NIKOLAEVITCH |
| 分类号 |
G21K5/02;G03F7/20;H01L21/027;H05G2/00 |
主分类号 |
G21K5/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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