发明名称 薄膜形成装置和方法、液晶装置的制造装置和制造方法
摘要 本发明提出一种薄膜形成装置和薄膜形成方法,可通过在基板(SUB)上涂敷涂敷液(L)而形成薄膜,该装置包含:具有向所述基板上喷出所述涂敷液的液滴喷出头的喷出机构(2);使该液滴喷出头和所述基板的位置相对移动的移动机构(3);控制喷出机构和移动结构的至少一方的控制部(C);该控制部通过控制喷出机构的喷出动作和移动机构的移动动作的至少一方,改变涂敷液的涂敷条件,来进行薄膜的膜厚控制。在薄膜形成装置和薄膜形成方法、液晶装置的制造装置和制造方法、薄膜构造体的制造装置和制造方法以及在液晶装置、薄膜构造体、电子机器的制造过程中,即使不使用旋转部件,也能容易地控制膜厚,并且可实现低成本化和小型化。
申请公布号 CN1212230C 申请公布日期 2005.07.27
申请号 CN03105469.2 申请日期 2003.02.21
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 桜田和昭
分类号 B41J2/00;G02F1/13 主分类号 B41J2/00
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1、一种薄膜形成装置,是一种通过在基板上涂敷涂敷液而形成薄膜的薄膜形成装置,其特征在于:包含:具有向所述基板上喷出所述涂敷液的液滴喷出头的喷出机构;能使该液滴喷出头和所述基板的位置相对移动的移动机构;控制所述喷出机构和所述移动结构的至少一方的控制部;该控制部通过控制所述喷出机构的喷出动作和所述移动机构的移动动作的至少一方,改变所述涂敷液的涂敷条件,来控制所述薄膜的膜厚;所述液滴喷出头至少在一列中排列多个喷嘴。
地址 日本东京