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发明名称 A METHOD OF FORMING SHALLOW TRENCH ISOLATION STRUCTURE IN A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 EP1556891(A1) 申请公布日期 2005.07.27
申请号 EP20030749561 申请日期 2003.09.09
申请人 ATMEL CORPORATION 发明人 BARRY, TIMOTHY, M.;DEGORS, NICOLAS;ERICKSON, DONALD, A.;KELKAR, AMIT, S.;LARSEN, BRADLEY, J.
分类号 H01L21/76;H01L21/302;H01L21/308;H01L21/461;H01L21/762;H01L21/8247;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
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