发明名称 蚀刻液回收系统与方法
摘要 本发明公开一种蚀刻液回收系统,包括:蚀刻槽,用以进行蚀刻反应,且蚀刻反应形成含杂质的废液;蚀刻液供应装置,用以供应蚀刻液至蚀刻槽;杂质移除装置,用以接收来自蚀刻槽的废液并移除废液中的杂质,以形成回收蚀刻液;以及混酸与浓度调整装置,用以对回收蚀刻液进行混酸与浓度调整步骤。
申请公布号 CN1645574A 申请公布日期 2005.07.27
申请号 CN200510003670.X 申请日期 2005.01.07
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 刘家彰;李玮华;吴明杰
分类号 H01L21/3213;C23F1/16;C23F1/00;B01J19/00 主分类号 H01L21/3213
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李晓舒;魏晓刚
主权项 1.一种蚀刻液回收系统,包括:一蚀刻槽,用以进行一蚀刻反应,且该蚀刻反应形成一含杂质的废液;一蚀刻液供应装置,是供应一蚀刻液至该蚀刻槽;一杂质移除装置,是接收该废液并移除该废液中的杂质,且形成一回收蚀刻液;以及一混酸与浓度调整装置,是对该回收蚀刻液进行一混酸与浓度调整步骤。
地址 台湾省新竹市