发明名称 | 蚀刻液回收系统与方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种蚀刻液回收系统,包括:蚀刻槽,用以进行蚀刻反应,且蚀刻反应形成含杂质的废液;蚀刻液供应装置,用以供应蚀刻液至蚀刻槽;杂质移除装置,用以接收来自蚀刻槽的废液并移除废液中的杂质,以形成回收蚀刻液;以及混酸与浓度调整装置,用以对回收蚀刻液进行混酸与浓度调整步骤。 | ||
申请公布号 | CN1645574A | 申请公布日期 | 2005.07.27 |
申请号 | CN200510003670.X | 申请日期 | 2005.01.07 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 刘家彰;李玮华;吴明杰 |
分类号 | H01L21/3213;C23F1/16;C23F1/00;B01J19/00 | 主分类号 | H01L21/3213 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
主权项 | 1.一种蚀刻液回收系统,包括:一蚀刻槽,用以进行一蚀刻反应,且该蚀刻反应形成一含杂质的废液;一蚀刻液供应装置,是供应一蚀刻液至该蚀刻槽;一杂质移除装置,是接收该废液并移除该废液中的杂质,且形成一回收蚀刻液;以及一混酸与浓度调整装置,是对该回收蚀刻液进行一混酸与浓度调整步骤。 | ||
地址 | 台湾省新竹市 |