| 发明名称 | 光刻术的方法,装置和计算机程序产品 | ||
| 摘要 | 一种在可以绕轴(5)转动的基本平坦基片(3)的表面层(4)中借助于预定曝光量的光刻射束(2)曝光制成材料槽(6)的方法，其特征是，在基片(3)绕轴转动期间，光刻射束(2)与轴(5)之间的相对位置受到控制，使部分槽(6)接受光刻射束(2)的多次曝光，槽(6)是由所述多次曝光之和制成。此外，描述光刻装置和计算机程序产品，计算机程序产品具有按照该方法控制这种装置的指令。 | ||
| 申请公布号 | CN1646993A | 申请公布日期 | 2005.07.27 |
| 申请号 | CN03809147.X | 申请日期 | 2003.04.24 |
| 申请人 | 奥博杜卡特股份公司 | 发明人 | 伦纳特·奥尔森 |
| 分类号 | G03F7/20;//G11B5/84 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蒋世迅 |
| 主权项 | 1.一种在可以绕轴(5)转动的基本平坦基片(3)的表面层(4)中借助于预定曝光量的光刻射束(2)曝光制成材料槽(6)的方法，其特征是，在基片(3)绕轴转动期间，光刻射束(2)与轴(5)之间的相对位置受到控制，使部分槽(6)接受光刻射束(2)的多次曝光，槽(6)是由所述多次曝光之和制成。 | ||
| 地址 | 瑞典马尔默 | ||