| 主权项 |
1.一种盖体限位结构,用于折叠型携带式电子装置并位于携带式电子装置之盖体与本体之连接部内,从而对折叠型携带式电子装置进行限位,该盖体限位结构包括:一随动装置,该随动装置与折叠型携带式电子装置之盖体相连;一缓冲装置,其与折叠型携带式电子装置之本体相连,其至少包括一止挡部,该止挡部由弹性橡胶制成,其于折叠型携带式电子装置之盖体翻转至一定角度时阻止随动装置继续转动以限制盖体继续转动。2.如申请专利范围第1项所述之盖体限位结构,其中该盖体具有第一支撑部及第二支撑部,第二支撑部上延伸一筒部,上述随动装置即系设置于该筒部之凸块。3.如申请专利范围第2项所述之盖体限置结构,其中该盖体限位结构包括一滑槽以供随动装置于其内滑动。4.如申请专利范围第3项所述之盖体限置结构,其中该滑槽之槽深大于凸块之高度。5.如申请专利范围第1项所述之盖体限位结构,其中本体包括一壳体,该壳体为中空柱体,其具一容置孔,该壳体端部具有一安装部以安装缓冲装置。6.如申请专利范围第5项所述之盖体限位结构,其中该安装部系由设置于壳体端面之开槽构成,该开槽与壳体之容置孔相贯通。7.如申请专利范围第6项所述之盖体限位结构,其中该安装部之开槽进一步开设一台阶槽。8.如申请专利范围第5项所述之盖体限位结构,其中该缓冲装置进一步包括一主体部,该主体部与上述安装部相配合。9.如申请专利范围第6项所述之盖体限位结构,其中该缓冲装置进一步包括一主体部,该主体部包括一台阶,该主体部与上述安装部相配合,该台阶与上述台阶槽配合。10.如申请专利范围第1项所述之盖体限位结构,其中该缓冲装置系与携带式电子装置之本体一体成型。11.如申请专利范围第1项所述之盖体限位结构,其中该缓冲装置系与携带式电子装置之本体系采用内嵌式注射成型制造。图式简单说明:第一图系本创作盖体限位结构之立体分解图;第二图系本创作盖体限位结构之缓冲装置之立体分解图;第三图系本创作盖体限位结构之缓冲装置之装配图;第四图系本创作盖体限位结构之盖体关闭时之剖视图;第五图系本创作盖体限位结构之盖体完全开启时之剖视图。 |
