发明名称 METHODE FOR FORMING INTERCONNECTION LINE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20050073860(A) 申请公布日期 2005.07.18
申请号 KR20040001967 申请日期 2004.01.12
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 SHIN, HYE SOO;YOO, DO YUL
分类号 H01L21/033;H01L21/20;H01L21/28;H01L21/311;H01L21/4763;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L21/033
代理机构 代理人
主权项
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