发明名称 Polymer, Resist Composition and Patterning Process
摘要
申请公布号 KR100501600(B1) 申请公布日期 2005.07.18
申请号 KR20000067373 申请日期 2000.11.14
申请人 发明人
分类号 G03F7/027;G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/027 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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