Vorrichtung und Verfahren zur Inspektion eines Wafers

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Inspektion eines Wafers. DOLLAR A Die Vorrichtung umfasst zumindest eine stroboskopische Auflicht-Beleuchtungseinrichtung, um einen gepulsten Beleuchtungs-Lichtstrahl auf eine Oberfläche des Wafers abzustrahlen und einen Bereich auf der Oberfläche des Wafers zu beleuchten, und mit zumindest einer Bilderfassungseinrichtung, um ein Bild des jeweils beleuchteten Bereichs auf der Oberfläche des Wafers zu erfassen. Die Vorrichtung zeichnet sich erfindungsgemäß dadurch aus, dass zumindest eine Photodetektionseinrichtung zum Erfassen von Licht des jeweiligen Beleuchtungs-Lichtstrahls und eine Steuereinrichtung vorgesehen sind, um einen Bilderfassungsvorgang auf der Grundlage des von der Photodetektionseinrichtung erfassten Lichts zu steuern. DOLLAR A Intensitätsschwankungen der Lichtblitze der Auflicht-Beleuchtungseinrichtung werden entweder durch Normieren von Bilddaten des beleuchteten Bereichs oder durch Steuern der zeitlichen Dauer der Lichtblitze kompensiert.