Verfahren zur Inspektion eines Wafers

摘要

Mithilfe von Hellfeld- und/oder Dunkelfeldbeleuchtung können Defekte auf einem Wafer (26) erkannt werden. Dabei hat die auf den Wafer (26) einfallende Strahlung einen wesentlichen Einfluss auf die Zuverlässigkeit des Messergebnisses. Zur Verbesserung der Zuverlässigkeit des Messergebnisses wird der Wafer (26) mit einer Beleuchtungseinrichtung (12) beleuchtet, wobei die Einstellung der Beleuchtungseinrichtung (12), insbesondere deren Helligkeit und Frequenz, unter Einbeziehung von ausgelesenen, gespeicherten Beleuchtungssollwerten erfolgt. Diese Beleuchtungssollwerte werden durch eine vorangegangene Referenzmessung ermittelt.