发明名称 |
苯并双唑基化合物 |
摘要 |
一种光记录介质包括基片和在基片上形成的作为记录层的有机染料层,其中记录层包含至少一种以通式(1)表示的苯并双唑基化合物。[式中,取代基X和Y各自表示芳基或杂芳基;环A和B各自表示噁唑环或噻唑环;以及Q<SUP>1</SUP>和Q<SUP>2</SUP>各自表示氢原子、卤素原子或烷基;条件是,以取代基X和Y分别表示的芳基或杂芳基各自可用卤素原子、羟基、氰基、氨基,取代或未取代的烷基、芳烷基、芳基、链烯基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、链烯氧基、烷硫基、芳烷硫基、芳硫基、链烯硫基、单取代的氨基、双取代的氨基、酰基、烷氧羰基、芳烷氧羰基、芳氧羰基、链烯氧羰基、单取代的氨基羰基、双取代的氨基羰基、酰氧基或杂环基等来取代]。 |
申请公布号 |
CN1636999A |
申请公布日期 |
2005.07.13 |
申请号 |
CN200410089855.2 |
申请日期 |
2001.01.05 |
申请人 |
三井化学株式会社;山本化成株式会社 |
发明人 |
小木曾章;井上忍;塚原宇;西本泰三;三泽伝美 |
分类号 |
C07D498/04;//(C07D498/04,263∶00,263∶00) |
主分类号 |
C07D498/04 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
段晓玲 |
主权项 |
1.以通式(1a)表示的苯并双唑基化合物:式中取代基X′和Y′各自表示芳基或杂芳基,环A和B以及Q1和Q2与式(1)中的环A和B以及Q1和Q2相同,条件是,以取代基X′和Y′表示的芳基或杂芳基各自用选自下列的取代基来取代:卤素原子、羟基、氰基、氨基或者取代或未取代的烷基、芳烷基、芳基、链烯基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、链烯氧基、烷硫基、芳烷硫基、芳硫基、链烯硫基、单取代的氨基、双取代的氨基、酰基、烷氧羰基、芳烷氧羰基、芳氧羰基、链烯氧羰基、单取代的氨基羰基、双取代的氨基羰基、酰氧基或杂环基以及至少一个取代基表示具有3个或更多个碳原子的双取代氨基或者在碳链中具有1到3个氧原子的烷氧基。 |
地址 |
日本东京都 |