| 主权项 |
1.一种电浆清洁处理系统,系利用输送装置将内含诸多待清洁物之固定支撑架一一送至腔体一侧,再将诸多待清洁物取至腔体内的支撑架中,配合腔体内的电极连接之电源供应器产生电浆作该待清洁物之电浆清洁处理;其特征在于:该腔体内的支撑架为可调式支撑架,能作上下间距之调整,使每一待清洁物之间距加大以利电浆进行清洁。2.一种电浆清洁处理系统,系利用输送装置将内含诸多待清洁物之固定支撑架一一送至腔体一侧,再将诸多待清洁物取至腔体内的支撑架中,配合腔体内的电极连接之电源供应器产生电浆作该待清洁物之电浆清洁处理;其特征在于:该腔体内的支撑架为可调式支撑架,能作上下间距之调整,且在该固定支撑架及可调式支撑架之相对应外侧分别设有一传动杆,该传动杆由动力源连接驱动作伸缩,配合传动杆前端组设的推板可以将固定支撑架内所有待清洁物推入可调式支撑架内,且于清洁后再由另一组传动杆利用推板将可调式支撑架内的所有待清洁物推回固定支撑架内。3.一种电浆清洁处理系统,系利用输送装置将内含诸多待清洁物之固定支撑架一一送至腔体一侧,再将诸多待清洁物取至腔体内的支撑架中,配合腔体内的电极连接之电源供应器产生电浆作该待清洁物之电浆清洁处理;其特征在于:该腔体内的支撑架为可调式支撑架,能作上下间距之调整,且在该固定支撑架及可调式支撑架之相对应外侧分别设有一传动杆,该传动杆由动力源连接驱动作伸缩,且传动杆前端连设有可雅动固定支撑架及可调式支撑架内之待清洁物之推板,且固定支撑架及可调式支撑架间设有辅助支撑架。4.一种电浆清洁处理系统,系利用输送装置将内含诸多待清洁物之固定支撑架一一送至腔体一侧,再将诸多待清洁物取至腔体内的支撑架中,配合腔体内的电极连接之电源供应器产生电浆作该待清洁物之电浆清洁处理;其特征在于:该腔体内的支撑架为可调式支撑架,能作上下间距之调整,且在该固定支撑架及可调式支撑架之相对应外侧分别设有一传动杆,该传动杆由动力源连接驱动作伸缩,且传动杆前端连设有可推动固定支撑架及可调式支撑架内之待清洁物之推板,且固定支撑架及可调式支撑架间设有辅助支撑架及缓冲支撑架。5.一种电浆清洁处理系统,系利用输送装置将内含诸多待清洁物之固定支撑架一一送至腔体一侧,再将诸多待清洁物取至腔体内的支撑架中,配合腔体内的电极连接之电源供应器产生电浆作该待清洁物之电浆清洁处理;其特征在于:该腔体为对半张合的前腔体与后腔体组成并置于滑轨上由动力源驱动,配合前腔体周壁组设的防漏胶条可于合并时达到密闭状态,且内可供置设可调式支撑架及电极,以分别供放置待清洁物及连接电源供应器。6.如申请专利范围第1项所述电浆清洁处理系统,其中之腔体内另设有均匀抽气板及均匀供气装置。7.如申请专利范围第1项所述电浆清洁处理系统,其中电极可为层状电极与后腔体连设,恰可插置于可调式支撑架内的各待清洁物之间。8.如申请专利范围第1项所述电浆清洁处理系统,其中电极可直接组设于可调式支撑架外侧。9.如申请专利范围第1、2、3、4或5项所述电浆清洁处理系统,其中可调式支撑架可为窗帘式,为利用导杆供套设所需层数之数片平导轨,于每一平导轨下固设有倒钩板,每一倒钩板穿过下一平导轨的穿孔,使之利用动力源带动最上一层的平导轨时即可顺利依序将原先上下密贴的各层平导轨一个接一个往上带且每一个保持一定的间距。10.如申请专利范围第1、2、3、4或5项所述电浆清洁处理系统,其中可调式支撑架可为剪刀式,为利用每一平导轨X交叉作活动组设的X型连杆作活动枢接且配合平导轨上的横长孔连设,将最上层的平导轨以动力源向上带动时,可同步将所有平导轨往上带且每一个保持一定的间距。11.如申请专利范围第1、2、3、4或5项所述电浆清洁处理系统,其中可调式支撑架可为阵列螺杆式,由动力源所同步带动之两组阵列齿轮向上延伸有数支的导螺杆,该导螺杆数目与平导轨数目相同,每一支螺杆只和一片的平导轨作螺合穿设,其余均恰好呈可活动套设之方式穿过作为导引滑动,故可分别将数层的平导轨一一向上作等距的张开或向下全部贴合。12.如申请专利范围第1、2、3、4或5项所述电浆清洁处理系统,其中之腔体可为两个以上。13.如申请专利范围第1、2、3、4或5项所述电浆清洁处理系统,其中之辅助支撑架及缓冲支撑架可为两个以上。图式简单说明:第一图:习用之不开槽支撑架图第二图:习用之开槽支撑架图第三图:本发明之系统示意图第四图:本发明之双真空腔体俯视示意图第五图:本发明之真空处理器示意图第六图:本发明之有缓冲支撑架系统示意图第七图:本发明之缓冲支撑架及其动作示意图第八图:本发明之层状电极示意图第九图:本发明之层状电极部份放大示意图第十图:本发明之电极配置示意图(一)第十一图:本发明之电极配置示意图(二)第十二图:本骄明之窗帘式支撑架图第十三图:本发明之剪刀式支撑架图第十四图:本发明之阵列螺杆式支撑架 |
