发明名称 镜面模版保护盖
摘要 本发明之镜面模版保护盖,系用以保护一射出成型机之一镜面模版组,镜面模版保护盖系包含一盖体、以及至少一翼部,盖体系至少具有一第一通孔、以及至少一第二通孔,翼部系由盖体之一侧延伸设置。
申请公布号 TWI235704 申请公布日期 2005.07.11
申请号 TW093113523 申请日期 2004.05.13
申请人 精碟科技股份有限公司 发明人 黄登键;李暐秩;王宝隆
分类号 B29C45/00 主分类号 B29C45/00
代理机构 代理人 刘正格 台北市大同区重庆北路3段88号3楼之1
主权项 1.一种镜面模版保护盖,其系用以保护一射出成型机之一镜面模版组,其系包含:一盖体,其系至少具有一第一通孔、以及至少一第二通孔;以及至少一翼部,其系由该盖体之一侧延伸设置。2.如申请专利范围第1项所述之镜面模版保护盖,其中该盖体系为一透明之盖体。3.如申请专利范围第1项所述之镜面模版保护盖,其中该盖体之材质系为压克力。4.如申请专利范围第1项所述之镜面模版保护盖,其中该镜面模组系包含一镜面模版、一模槽环、一模槽环固定件、以及至少一第一螺丝,而该第一螺丝系将该镜面模版、该模槽环、及该模槽环固定件固定于该射出成型机。5.如申请专利范围第4项所述之镜面模版保护盖,其中该第一通孔系与该第一螺丝相对而设,以经由该第一通孔松脱该第一螺丝。6.如申请专利范围第1项所述之镜面模版保护盖,更包含至少一第二螺丝,该第二螺丝系经由该第二通孔,以固定该盖体、该模槽环固定件、及该模槽环。7.如申请专利范围第1项所述之镜面模版保护盖,其中该翼部系与该盖体一体成型。8.如申请专利范围第1项所述之镜面模版保护盖,该镜面模版保护盖系具有二个该翼部。9.如申请专利范围第7项所述之镜面模版保护盖,其中该等翼部系分别具有一凹部。图式简单说明:图1 系习知镜面模版组之一示意图;图2 系本发明之镜面模版保护盖之一示意图;以及图3 系本发明之镜面模版保护盖之一俯视示意图。
地址 台北县五股乡五权七路13号