| 主权项 |
1.一种表面检查方法,属于将所定光束以所定入射 角入射在表面检查对象的被检查体的被检查面,相 对地变位上述光束及上述被检查体中至少一方,使 得上述光束扫描上述被检查面,而将上述光束所入 射的上述被检查面的部分被反射的散射光强度,有 关于对应于上述光束所入射的被检查面部分的所 定方向的方向的一维方向空间地分解复数光路,藉 由个别地检测该分解所得到的各分解散射光的光 强度,俾进行被检查面的检查的表面检查方法,其 特征为: 能提高有关于上述光束所入射的被检查面部分的 至少上述所定方向的光线的光强度分布的均一性 。 2.如申请专利范围第1项所述的表面检查方法,其中 ,对于上述所定方向使得复数光束排列地,藉由将 该复数光束入射于上述被检查面部分,大约均一地 设定上述光线的光强度分布。 3.一种表面检查方法,属于将所定光束以所定入射 角入射在表面检查对象的被检查体的被检查面,相 对地变位上述光束及上述被检查体中至少一方,使 得上述光束扫描上述被检查面,而将上述光束所入 射的上述被检查面的部分被反射的散射光强度,有 关于对应于上述光束所入射的被检查面部分的所 定方向的方向的一维方向空间地分解复数光路,藉 由个别地检测该分解所得到的各分解散射光的光 强度,俾进行被检查面的检查的表面检查方法,其 特征为: 将有关于所检测的上述一维元方向的上述分解散 射光的光强度分布,按照有关于上述光束所入射的 被检查面部分的至少上述所定方向的光线的光强 度分布作成规格化。 4.如申请专利范围第1项或第3项所述的表面检查方 法,其中,上述所定方向是对于上述光束扫描上述 被检查面的方向呈大约正交的方向。 5.一种表面检查装置,其特征为具备;出射所定光束 的光源,及将从上述光源所出射的光束以所定入射 角入射在表面检查对象的被检查体的被检查面的 照射光学系,及相对地变位上述光束及上述被检查 体中的至少一方,使得上述光束扫描上述被检查面 的扫描手段,及检测所入射的光强度的光强度检测 手段,及将从上述光束所入射的上述被检查面的部 分所出射的散射光,导光至上述光强度检测手段的 散射光检测光学系;上述光强度检测手段是针对于 上述光强度检测手段的入射面内的至少一维方向, 设定成将上述散射光分解成复数通道并加以检测, 俾提高有关于上述光束所入射的被检查面部分的 至少上述所定方向的光线的光强度分布的均一性 。 6.如申请专利范围第5项所述的表面检查装置,其中 ,上述光源是出射复数光束的光源;上述照射光学 系是从上述光源所出射的复数光束朝上述所定方 向排列地,藉由将该复数光束入射于上述被检查面 部分,大约均一地设定有关于上述所定方向的光线 的光强度分布。 7.一种表面检查装置,其特征为具备:出射所定光束 的光源,及将从上述光源所出射的光束以所定入射 角入射在表面检查对象的被检查体的被检查面的 照射光学系,及相对地变位上述光束及上述被检查 体中的至少一方,使得上述光束扫描上述被检查面 的扫描手段,及检测所入射的光强度的光强度检测 手段,及将从上述光束所入射的上述被检查面的部 分所出射的散射光,导光至上述光强度检测手段的 散射光检测光学系;上述光强度检测手段是针对于 上述光强度检测手段的入射面内的至少一维方向, 设定成将上述散射光分解成复数通道并加以检测, 并将有关于所检测的上述一维方向的上述分解散 射光的光强度分布,按照至少有关于上述光束所入 射的被检查面部分的上述所定方向的光线的光强 度分布设定成规格化。 8.如申请专利范围第7项所述的表面检查装置,其中 ,上述光强度检测手段是在上述各光路别地具备放 大器,对应于上述各光路的放大器的放大率,是按 照至少有关于上述光束所入射的被检查面部分的 上述所定方向的光线的光强度分布而将有关于上 述一维方向的上述分解散射光的光强度分布设定 成规格化。 9.如申请专利范围第5项所述的表面检查装置,其中 ,上述所定方向对于上述光束扫描上述被检查面的 方向呈大约正交的方向。 图式简单说明: 第1图是表示本发明的第2表面检查装置的一实施 形态的概略构成图。 第2(a)图是表示图示于第1图的表面检查装置中主 要针对于散射光检测光学系及光强度检测手段的 俯视图。 第2(b)图是表示图示于第1图的针对应于散射光检 测光学系及光强度检测手段的侧视图。 第3图是表示照射域的分割领域与多阳极PMT所分解 的通道的对应关系的图式。 第4图是表示缺陷的种别或状态[(a),(b),(c)]及检测 光强度[(d),(e),(f)]的对应关系的图式。 第5(a)图是表示照射域与真正照射域的关系的模式 图。 第5(b)图是表示沿着第5(a)图的照射域的Y轴方向的 受光强度分布的图式。 第6图是表示将受光强度分布视作为均一的规格化 (修正处理)的概念图式。 第7图是表示被检查面上的照射域的大小与扫描轨 迹的节距的关系的图式;(a)是表示与习知同样的照 射域的情形;(b)是表示扩大至真正照射域的情形。 第8图是表示本发明的第1表面检查装置的一实施 形态的概略构成图。 第9图是表示依图示于第8图的表面检查装置的入 射雷射光的照射光点及受光强度的分布图式。 |
