| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR HIGH SPEED ATOMIC LAYER DEPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050071360(A) |
申请公布日期 |
2005.07.07 |
| 申请号 |
KR20040117650 |
申请日期 |
2004.12.31 |
| 申请人 |
THE BOC GROUP, INC. |
发明人 |
DICKINSON COLIN JOHN;JANSEN FRANK |
| 分类号 |
H01L21/20;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/31;H01L21/318;(IPC1-7):H01L21/20 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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