| 发明名称 |
MULTI EXPOSURE METHOD OF PHOTO MASK USING ELECTRON BEAM |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR20050068970(A) |
申请公布日期 |
2005.07.05 |
| 申请号 |
KR20030100788 |
申请日期 |
2003.12.30 |
| 申请人 |
DONGBUANAM SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
SON, JAE HOON |
| 分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
