发明名称 晶圆机械应力监控及晶圆热应力监控用之方法与设备
摘要 一种化学机械平坦化(CMP)系统,此CMP系统包含一晶圆载具,用于在一平坦化制程期间支持一晶圆,该晶圆载具包含一用来侦测一讯号之感测器,该讯号系表示该晶圆在平坦化期间所承受之应力。也包含一计算装置与该感测器连结。该计算装置用于转译该讯号以产生一分析用之应力图。亦包含一应力缓和装置,其对一从该计算装置所接收之讯号做出回应。该应力缓和装置用来缓和该晶圆所承受之应力。
申请公布号 TW200521419 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW093128393 申请日期 2004.09.20
申请人 兰姆研究公司 发明人 叶海 高金斯;罗德尼 奇士特勒;亚力山得 欧萨斯;大卫 韩克尔;尼可拉斯J 布莱特
分类号 G01L1/00 主分类号 G01L1/00
代理机构 代理人 许峻荣
主权项
地址 美国