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发明名称
晶圆机械应力监控及晶圆热应力监控用之方法与设备
摘要
一种化学机械平坦化(CMP)系统,此CMP系统包含一晶圆载具,用于在一平坦化制程期间支持一晶圆,该晶圆载具包含一用来侦测一讯号之感测器,该讯号系表示该晶圆在平坦化期间所承受之应力。也包含一计算装置与该感测器连结。该计算装置用于转译该讯号以产生一分析用之应力图。亦包含一应力缓和装置,其对一从该计算装置所接收之讯号做出回应。该应力缓和装置用来缓和该晶圆所承受之应力。
申请公布号
TW200521419
申请公布日期
2005.07.01
申请号
TW093128393
申请日期
2004.09.20
申请人
兰姆研究公司
发明人
叶海 高金斯;罗德尼 奇士特勒;亚力山得 欧萨斯;大卫 韩克尔;尼可拉斯J 布莱特
分类号
G01L1/00
主分类号
G01L1/00
代理机构
代理人
许峻荣
主权项
地址
美国
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