改善良率与并合蚀刻停止层及/或张力薄膜之闸极流程替代

摘要

本发明系关于沈积一层于一电晶体结构之上，从而在该电晶体内引起结晶张力，并导致效能的提高。可在形成于一基板上之复数个电晶体之上或在复数个选定的电晶体之上形成该张力层。