发明名称 制造垂直式电子装置之方法
摘要 一半导体基材系在半导体基材的前侧上已经具有一半导体装置,而在半导体基材的背侧上受到一离子植入。经掺杂的背侧之主动表面系被可控制式加热以进行一植入退火。利用一闪急退火程序进行半导体基材的背侧之植入退火,藉以避免造成半导体基材的前侧上所形成之半导体装置的破坏。
申请公布号 TW200522139 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW093129430 申请日期 2004.09.29
申请人 晶圆大师股份有限公司 发明人 于伍锡
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国