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经营范围
发明名称
制造垂直式电子装置之方法
摘要
一半导体基材系在半导体基材的前侧上已经具有一半导体装置,而在半导体基材的背侧上受到一离子植入。经掺杂的背侧之主动表面系被可控制式加热以进行一植入退火。利用一闪急退火程序进行半导体基材的背侧之植入退火,藉以避免造成半导体基材的前侧上所形成之半导体装置的破坏。
申请公布号
TW200522139
申请公布日期
2005.07.01
申请号
TW093129430
申请日期
2004.09.29
申请人
晶圆大师股份有限公司
发明人
于伍锡
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
美国
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