显示面板之检查方法和检查装置及制造方法(一) METHOD AND DEVICE FOR CHECKING A DISPLAY PENEL AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME (1)

摘要

本发明的目的是在于提供一种可根据被检查物的构造特性以决定最合适于检查表面形状之光学条件，并将所决定的条件反映于检查装置，以高精度的进行检查，以在不降低产量之下提高成品率，而可制造高品质且高可靠性的基板之显示面板的检查方法和检查装置及制造方法者。本发明的显示面板检查方法之特征是具备照明手段和摄影手段及信号处理手段，而在与被以所定间隔涂布在基板上的多数条萤光体层成交叉的方向，一面使基板或使照明手段和摄影手段移动，一面测定萤光体层的明暗信号，而由所取得的信号以测定每个萤光体层的涂布量者。

主权项

1.一种显示面板之检查方法,系对由基板、隔壁、 以及萤光体层所成的显示面板之该萤光体层的形 成状态作检查,该隔壁系于基板上取所定间隔作设 置,该萤光体层系在相邻的2条该隔壁间涂布萤光 体而形成, 该检查方法之特征为:具备照明手段、摄影手段、 及信号处理手段,其中,藉由一边使该基板或使该 照明手段和该摄影手段朝与以所定间隔涂布在基 板上的多数条萤光体层成交叉的方向移动,一边利 用该摄影手段来拍摄从该照明手段朝该萤光体层 以入射角入射的光当中之、以略同于该入射角 的反射角反射的光,以测定该萤光体层之明暗 信号,而由所获得之信号来测定该各萤光体层的该 萤光体之涂布量。 2.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其中 该移动是使用滚筒者。 3.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其中 包含 可测定基板与摄影手段的相对速度之移动速度测 定手段者。 4.如申请专利范围第3项显示面板之检查方法,其中 依据该移动速度测定手段所取得的相对速度,以修 正该摄影手段所取得的信号,并依据所修正的信号 ,以测定每个萤光体层的涂布量者。 5.如申请专利范围第3项显示面板之检查方法,其中 该移动速度测定手段是依据该摄影手段所取得的 各萤光体层的间隔,以算出速度者。 6.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其中 该萤光体层为液状者。 7.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其中 该照明手段是具备可使出射光扩散的光扩散手段 者。 8.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其中 该照明手段是具备可从出射光之中选择所欲偏光 方向的光之光偏光方向选择手段者。 9.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其中 该照明手段的要使光出射的射出口之形状为缝隙 状者。 10.如申请专利范围第9项显示面板之检查方法,其 中 该缝隙的宽度是在0.3mm以上、10mm以下,缝隙的长度 是在10mm以上1000mm以下者。 11.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其 中 该摄影手段是具有多数个一维配置之感光元件者 。 12.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其 中 该信号处理手段是将该摄影手段的多数个份感光 元件之信号相加并平均化,而从被平均化的信号波 形求出每个萤光体层的信号峰値,并将信号峰値连 接以取得每个萤光体的信号峰値波形,以由信号峰 値波形测定各萤光体层的萤光体之涂布量者。 13.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其 中 该摄影手段是具备可从反射光中选择所欲偏光方 向的光之光偏光方向选择手段者。 14.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其 中 该照明手段是照射360nm以下的紫外线,而该摄影手 段是以拍摄360nm以下的紫外线为主者。 15.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其 中 设该摄影手段的分辨能力为R,由隔壁所形成而要 涂布萤光体的槽之宽度为L时,其系可满足下式 者 3≦L/R≦10 。 16.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其 中 该信号处理手段是依据该摄影手段所取得的信号 算出该照明手段所入射于基板的检查光强度,而参 照该算出的检查光强度,对照明手段进行修正,以 使在下一基板的检查时,其检查光的强度可成为预 先所设定的目标値者。 17.如申请专利范围第1项显示面板之检查方法,其 中 入射角的角度是设定为,以入射角的光入射于 未涂布萤光体状态的槽底部后其所获得之反射角 的反射光是会被隔壁所遮断之角度。 18.如申请专利范围第17项显示面板之检查方法,其 中 设形成槽的隔壁之高度为H、萤光体表面高度为Hp 、由隔壁所形成的要涂布萤光体的槽之宽度为L 、由隔壁所形成的不涂布萤光体的槽之宽度为L 时,其光的入射角系可满足下式者 19.一种显示面板之检查装置,系对由基板、隔壁、 以及萤光体层所成的显示面板之该萤光体层的形 成状态作检查该隔壁系于基板上取所定间隔作设 置,该萤光体层系在相邻的2条该隔壁间涂布萤光 体而形成, 该检查装置之特征为:具备照明手段、摄影手段、 及信号处理手段,其中,藉由一边使该基板或使该 照明手段和该摄影手段朝与以所定间隔涂布在基 板上的多数条萤光体层成交叉的方向移动,一边利 用该摄影手段来拍摄从该照明手段朝该萤光体层 以入射角入射的光当中之、以略同于该入射角 的反射角反射的光,以测定该萤光体层之明暗 信号,而由所获得之信号来测定该各萤光体层的该 萤光体之涂布量。 20.如申请专利范围第19项之显示面板之检查装置, 其中 照明手段和摄影手段是分别设置在可照射和拍摄 光入反射角的光之位置,而该光入反射角的光 之在于未涂布萤光体状态的槽底部之反射光系会 被隔壁所遮断者。 21.如申请专利范围第20项显示面板之检查装置,其 中 设形成槽的隔壁之高度为H、萤光体表面高度为Hp 、由隔壁所形成的要涂布萤光体的槽之宽度为L 、由隔壁所形成的不涂布萤光体的槽之宽度为L 时,其光的入射角系可满足下式者 22.如申请专利范围第20项显示面板之检查装置,其 中 设该摄影手段的F数为F时,其系可满足下式者 1.2≦F≦2.0 。 23.如申请专利范围第20项显示面板之检查装置,其 系包含: 光接收强度衰减手段,而设定在该光接收强度衰减 手段的可见光领域之光密度値为OD时,其系可满足 下式者 0.3≦OD≦2.0 。 24.如申请专利范围第20项显示面板之检查装置,其 系包含: 在基板的检查面上设置遮罩,而该遮罩系只在要作 为检查对象的萤光体所存在的部分持有开口部者 。 25.一种显示面板之制造方法,其系具备有:在基板 上涂布萤光体的涂布工程和使萤光体乾燥的乾燥 工程,其特征为: 在该涂布工程与该乾燥工程之间,具备要检查萤光 体层的涂布量之检查手段者。 26.如申请专利范围第25项显示面板之制造方法,其 中 设形成槽的隔壁之高度为H、萤光体的表面高度为 Hp时,其系可满足下式者 0.6