检测热垫板倾斜状态的方法

摘要

本发明系利揭露一种检测热垫板倾斜状态的方法，其系先选定一较敏感之光阻剂，将其涂布于一晶片上，将晶片至于一标准热垫板上进行烘烤，再利用一渐进式改变光源强度之步进式曝光法，来求得在一光阻层厚度下，能将该光阻层曝光的最低曝能量值，然后于另一晶片表面涂布相同厚度的同样光阻层后，置于一待测的热垫板上进行烘烤，接着使用所求得之最低曝光光源对该晶圆之光阻层进行曝光，藉着晶圆上之光阻层是否均匀曝光来判断热垫板是否倾斜。